Popis
Tento 3D kryt pro iPhone 4/4S je vhodný pro potisk pomocí sublimace. Kryt dokonale chrání váš telefon před nadměrném opotřebení při běžném používání. Potisk se provádí přímo na kryt.
Technologie:
Zrcadlově obrácený obrázek vytiskněte na sublimační papír, nebo na speciální fólii a poté přeneste na kryt pomocí vakuového termolisu. Před vložením krytu do termolisu, umístěte jej do podložky. Podložka zabraňuje deformaci krytu, která by mohla vzniknout vlivem vysoké teploty.
Teplota*: 180°C
Čas*: 5 – 7 min.
Přítlak: normální
*uvedený čas a teplota platí pro potisk v termolisech
